Production of 4-Ethyl Malate through Position-Specific Hydrolysis of Photobacterium lipolyticum M37 Lipase.
Photobacterium lipolyticum M37リパーゼの位置特異的加水分解による4-エチルリンゴ酸の生産 (機械翻訳の邦題)
記録の確認項目
- 研究デザイン
- その他の原著論文
- 対象
- 未確定
- 出版年
- 2022
- 出典
- doi.org
- 抄録の表示
- 表示あり
- 出版状態
- 有効な記録
- 状態確認日
- 2026/08/17
- 収集日
- 2026/08/03
- 鮮度
- 確認期限内
- 確認段階
- 自動処理
- 記録状態
- 公開
日本語要約(機械生成)
微生物リパーゼは基質特異性と位置特異性から多様な化合物合成に利用される。4-エチルリンゴ酸(4-EM)はジエチルリンゴ酸(DEM)から作られ、ArFフォトレジストの原料として重要である。本研究では、複数の微生物リパーゼを検討し、Photobacterium lipolyticum M37リパーゼがDEMを位置特異的に加水分解して4-EMを生成することを見出した。反応生成物はシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、NMR分析により4-EMと確認した。大量生産のため、温度とpHを自動制御する酵素リアクターシステムを用いてDEM加水分解反応を行い、温度とpHの影響を調べた。その結果、至適条件は50℃、pH 4.0であり、M37は酸性リパーゼであることが示された。基質濃度を6%(0.32 M)に増加させると反応収率はほぼ100%に達し、12%では81%となった。この酵素リアクターシステムと位置特異的M37リパーゼは、ArFフォトレジスト合成に必要な4-EMの大量生産に利用できる。
この要約は公開抄録のみを根拠にAIが機械的に生成したものです。正確な内容は原文を確認してください。
抄録
Microbial lipases are used widely in the synthesis of various compounds due to their substrate specificity and position specificity. 4-Ethyl malate (4-EM) made from diethyl malate (DEM) is an important starting material used to make argon fluoride (ArF) photoresist. We tested several microbial lipases and found that Photobacterium lipolyticum M37 lipase position-specifically hydrolyzed DEM to produce 4-EM. We purified the reaction product through silica gel chromatography and confirmed that it was 4-EM through nuclear magnetic resonance analysis. To mass-produce 4-EM, DEM hydrolysis reaction was performed using an enzyme reactor system that could automatically control the temperature and pH. Effects of temperature and pH on the reaction process were investigated. As a result, 50°C and pH 4.0 were confirmed as optimal reaction conditions, meaning that M37 was specifically an acid lipase. When the substrate concentration was increased to 6% corresponding to 0.32 M, the reaction yield reached almost 100%. When the substrate concentration was further increased to 12%, the reaction yield was 81%. This enzyme reactor system and position-specific M37 lipase can be used to mass-produce 4-EM, which is required to synthesize ArF photoresist.
MeSH
DOI 10.4014/jmb.2112.12055
PMID 35354762
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